一、現在通過干涉測量法可以研究厚度至 50 納米（同樣取決于折射率）的薄膜涂層。 采用這種新型方法，可以在單次測量中研究膜厚、界面粗糙度、針孔缺陷以及薄涂層表面的剝離等特性。
1.2048 x 2048像素陣列，視場廣，高分辨率
2.全量程0.1埃的分辨率
3.適用于0.3% - 100%的表面反射率
4.RMS 重復精度＜0.2埃，階躍高度重復精度 ＜0.1%
5.多語言版本的64位控制和分析軟件

二、特點： 1.CCI MP-HS非常適合用于研究領域，從非常粗糙的表面到極其光滑的表面，任何類型的表面它都能測量，因而具備測量各種元件的能力。
2.無論測量的是何種元件，無論對分析速度的要求有多高，我們創新的CCI MP-HS非接觸式光學輪廓儀都能為您提供精密的3D表面測量結果。 一百萬高速相機與1/10埃垂直分辨率相結合，無論是測量非常粗糙的表面，還是測量極其光滑的表面，都能獲得令人不可思議的詳細分析。
3.CCI MP-HS極大地擴展了分析能力，同時又不至于讓分析程序變得更復雜。 您可以測量各種各樣的元件和表面，不需要進行復雜的測量模式切換，也不會給中間透鏡的校準增加額外的負擔。 通過標準化的方法、程序和報告，CCI MP-HS可輕松地整合到您的質量管理系統中。

1.1048 x 1048像素陣列，視場廣，高分辨率
2.高級X、Y、Z拼接，擴展量程
3.RMS重復精度＜0.2 埃，階躍高度重復精度＜0.1%
4.整合抗振，優化抗噪性能
5.多語言版本的Windows，64位軟件

三:CCI MP 是一種多功能的非接觸式 3D 輪廓儀，可測量拋光表面、粗糙表面、曲面、平面或臺階面。
CCI MP是一種高級的測量干涉儀（非接觸式3D輪廓儀）。 它采用享有的新型關聯算法，來查找由我們的精密光學掃描裝置產生的干涉圖的相干峰和相位。
CCI MP對于很多需要進行高精度3D輪廓分析的應用非常有用。 轉臺上可以同步裝配各種各樣的標的物，因而可測量多種類型的表面。 自動的工作臺和自動測量程序進一步增強了測量的靈活性。
CCI MP非接觸式3D輪廓儀的一個關鍵優勢就是功能多、用途廣。 反射率為0.3%至100%的拋光表面、粗糙表面、曲面、平面或臺階面，都能使用一種算法進行測量，不需要為不同的表面改變模式，也不用擔心會選擇錯誤的模式。 可測量的材料類型包括： 玻璃、液體墨水、光刻膠、金屬、聚合物和糊劑。
1.1048 x 1048像素陣列，視場廣，高分辨率
2.經過改良的新型X、Y、Z拼接，量程多達100毫米
3.RMS重復精度＜0.2埃，階躍高度重復精度＜0.1%
4.全量程埃級分辨率
5.多語言版本的Windows 7，64位軟件

四:CCI光學裝置
無論對分析速度的要求有多高，我們創新的CCI光學裝置非接觸式光學輪廓儀都能為您提供精密的3D表面測量結果。 高分辨率相機與1/10埃垂直分辨率相結合，無論是測量非常粗糙的表面，還是測量極其光滑的表面，都能獲得令人不可思議的詳細分析。
CCI光學裝置與光學研究人員和科學家的專業知識保持與時俱進，能滿足光學領域的嚴苛測量要求。 CCI光學裝置將強大的尺寸及粗糙度分析軟件與無與倫比的工程設計融于一體，是一種非常適合用于粗糙度測量的檢驗工具。 CCI優質的薄膜厚度測量功能，進一步完善了為光學工業而設計的出色計量包裝 。
1.2048 x 2048像素陣列，視場廣，高分辨率
2.全量程0.1埃的分辨率
3.輕松測量反射率為0.3% - 100%的各種表面
4.RMS重復精度＜0.2埃，階躍高度重復精度＜0.1%
5.多語言版本的64位控制和分析軟件